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光刻胶领涨两市!利空频出下缘何强势?

2020-05-25 13:00:00来源:财联社
责任编辑:第一黄金网
摘要
, 近期,科技股面临中美摩擦升级、美国针对华为海思管制升级和疫情高位震荡等众多利空因素,整体表现不佳。然而,今

, 近期,科技股面临中美摩擦升级、美国针对华为海思管制升级和疫情高位震荡等众多利空因素,整体表现不佳。然而,今日光刻胶却逆势领涨两市,板块涨幅达到4.29%,成为科技股中一股“清流”。

其实,在上周,市场就已对半导体材料表示认可。天风证券研报指出,此前美国针对华为海思的管制升级后,半导体设备和材料指数“先涨后跌”,设备指数与材料指数在事件后前两日呈上行趋势,市场对于半导体设备材料国产替代趋势逻辑较为认可。

那么,在光刻胶如此强势的背后,隐藏着什么硬核逻辑?

国产替代的急切需求

在半导体材料领域,光刻胶作为是集成电路制程技术进步的“燃料”,是国产代替重要环节。浙商证券研报指出,目前一块半导体芯片在制造过程中一般需要进行 10-50 道光刻过程,光刻胶若性能不达标会对芯片成品率造成重大影响。

中信建投研报指出,在一次芯片制造中,往往要对硅片进行上十次光刻,在光刻过程中,需在硅片上涂一层光刻胶,经紫外线曝光后,光刻胶的化学性质发生变化,通过显影后,被曝光的光刻胶将被去除,电路图形由掩膜版转移到光刻胶上,再经过刻蚀工艺,实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。因此,光刻胶是光刻工艺最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻精度至关重要。

此外,天风证券潘暕指出,光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的30%,耗时约占整个芯片工艺的40%-50%,是芯片制造中最核心的工艺。

但是,目前光刻胶市场主要由日韩美公司垄断,大陆企业市占率不足 10%。光刻胶属于高技术壁垒材料,生产工艺复杂,纯度要求高,需要长期积累。由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发,光刻胶行业呈现寡头竞争的格局。根据《现代化工》数据,目前全球前五大光刻胶厂商占据全球约 87%的市场份额,大陆企业市场份额不足 10%。

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因此,在逆全球化浪潮下,在半导体材料方面的国产代替或是大势所趋。

行业或迎百亿空间

随着中国大陆晶圆厂建设加速,全球半导体产业东移,以及下游 5G终端、消费电子、汽车电子、物联网、高性能计算等应用需求旺盛,中国光刻胶市场在需求增长和市场扩大下保持了较好的上升趋势。

浙商证券研报指出,2020 年~2022 年是中国大陆晶圆厂投产高峰期,以长江存储,长鑫存储等新星晶圆厂和以中芯国际,华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期,未来 3 年将迎来密集投产。根据光刻胶的特性来推断,国内新建晶圆厂的密集投产为光刻胶打开了最佳代替窗口。

浙商证券孙芳芳指出,根据国内晶圆厂的建设速度和规划,预计2022年国内半导体光刻胶市场将会是2019年的两倍,约55亿元。同时,随着世界面板产能持续向中国转移,国内面板光刻胶市场需求预计约为105亿元,二者合计将带来约160亿元的市场空间。

天风证券潘暕指出,随着半导体线路图形越来越小,光刻工艺对光刻胶的需求量也越来越大,半导体光刻胶市场需求快速增长。2018年全球半导体用光刻胶市场规模约13亿美元,预计未来5年年均增速约8%-10%;中国半导体用光刻胶市场规模约23亿元人民币,预计未来5年年均增速约10%。

以下为中信建投整理的光刻胶重点公司,以供参考。

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